“这个创新思路很有价值。”李一凡开口道，“不过我们现在最关心的是时间表。威廉姆斯博士，按照您的规划，从立项到出样机需要多长时间？”

威廉姆斯在大屏幕上调出一份甘特图：“根据我们的评估，整个项目分三个阶段。第一阶段是基础研发，为期一年，主要是光学系统的原理验证和关键部件的商标。”

“第二阶段是工程样机，计划用两年时间完成28nm光刻机的质量。这个阶段最关键的是光学系统和精密控制系统的整合。”

“第三阶段是产品化和工艺提升，目标是在五年内实现14nm光刻机的量产。同时，我们会同步开展更先进工艺的研发。”

杨思涵若有所思：“这个规划很紧凑。不过第一年的基础研发恐怕还不够。光学系统涉及的技术积累太多，从零开始需要大量的实验验证。”

“你说得对。”威廉姆斯点头，“所以我们准备采用成品开发策略。光学系统串联三个子系统同时研发：光源系统、光学推理系统和瞄准系统。每个子系统都由一个专门的团队负责。”

他转向周边的团队成员：“约翰负责光源系统，他在EUV光源领域有十五年经验。马克主攻光学推理系统，负责ASML之前最新一代光刻机的光路设计。詹姆斯方向倾斜系统，是精密控制领域的专家。”

“那控制系统聚合怎么配合？”杨思涵问道。

“这就是我想和你们讨论的。”威廉姆斯详细说道，“中微在精密控制领域的积累非常宝贵。我们希望能够总结你们在刻蚀机上的经验，特别是纳米级定位技术和实时反馈系统。”

志尧一直在认真记录，尹开口道：“人员配置需要详细规划一下。光刻机项目预计需要多少研发人员？”

“年轻人需要200人左右的核心团队。”威廉姆斯说，“其中光学组50人，机械组70人，控制组50人，工艺组30人。但随着项目推进，团队规模会逐步扩大到500人以上。”

本小章还未完，请点击下一页继续阅读后面精彩内容！

“人才从哪里来？”尹志尧问了成长的关键问题。